主要配置：
6“，8”光源系统
可支持2“，3”，4“，6”，8“（圆/方片）及碎片光刻
手动系统，半自动系统
支持电源350-2000 Watt
支持深紫外近紫外波长（可选项）
支持背后对准及MEMS工艺要求
CCD或显微镜对准系统
主要性能指标：
光强均匀性Beam Uniformity:：
--<±1% over 2” 区域
--<±2% over 4” 区域
--<±3% over 6” 区域
接触式样曝光特征尺寸CD(近紫外NUV）：0.5 um
接触式样曝光特征尺寸CD（深紫外DUV）：0.35 um
支持接近式曝光，特征尺寸CD：
--0.8um 硬接触
--1um 20um 间距时
--2um 50um 间距时
正面对准精度 ± 0.5um
背面对准精度±1um--±2um（Depends on user）
支持正胶、负胶及Su8胶等的厚胶光刻，特征尺寸：100um-300um
支持LED优异电流控制技术PSS工艺光刻
支持真空、接近式、接触式曝光
支持恒定光强或恒定功率模式
北京中科复华科技有限公司是一家致力于为半导体领域和微纳米科学领域提供综合性解决方案，为全国各大高校、科研院所及企事业单位提供的半导体设备仪器和微纳米科学仪器，拥有一支经验丰富、技术过硬的技术团队。能够出色地完成售前、售中、售后的服务。未来公司将不断和引进在微纳米科学领域中起重要作用的新仪器和新产品，同时也与全国各所的大学、学院和科研院所建立了良好的合作关系，致力于把具有市场前景的科研成果推向市场。愿与中、外同仁广泛合作， 为中国的教育与科研事业在广范围、高层次上提供服务。
电子束曝光系统，刻蚀设备，镀膜设备，光刻机，半导体工艺设备
| 产地 | 国产 |
|---|
美国ABM 紫外光刻机 产品信息
关键词：显微镜
