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感应耦合等离子体刻蚀机（ICP）

参考价	￥10-￥280/台

具体成交价以合同协议为准

公司名称北京中科复华科技有限公司
品牌其他品牌
型号DISC-ICP-6
所在地北京市
厂商性质生产厂家
更新时间2025/5/16 16:08:28
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产品标签:

感应耦合等离子刻蚀等离子刻蚀 ICP 台式

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公司介绍主营产品

北京中科复华科技有限公司是一家致力于为半导体领域和微纳米科学领域提供综合性解决方案，为全国各大高校、科研院所及企事业单位提供的半导体设备仪器和微纳米科学仪器，拥有一支经验丰富、技术过硬的技术团队。能够出色地完成售前、售中、售后的服务。未来公司将不断和引进在微纳米科学领域中起重要作用的新仪器和新产品，同时也与全国各所的大学、学院和科研院所建立了良好的合作关系，致力于把具有市场前景的科研成果推向市场。愿与中、外同仁广泛合作，为中国的教育与科研事业在广范围、高层次上提供服务。

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电子束曝光系统，刻蚀设备，镀膜设备，光刻机，半导体工艺设备

产品简介在线询价

产地	国产

感应耦合等离子体刻蚀系统利用射频天线，通过感应耦合方式在放电腔中产生高密度等离子体，同时刻蚀工作台引入射频偏压，射频偏压作用下，等离子体中垂直向下对被刻蚀材料表面进行物理轰击，并与材料表面发生化学反应，达到对样品进行刻蚀的目的。

　　本系统具有ICP和RIE两种刻蚀功能，既可以进行细线条(纳米)加工，也可以进行高深宽比的体加工。可刻蚀的材料主要有SiO2、Si3N4、多晶硅、硅、SiC、GaN、

感应耦合等离子体刻蚀机（ICP）产品信息

应用方向：科研与教学

产品优势：耐氯基强腐蚀气体，带双片送取样室（Load-Lock）

产品配置：

★样片数量及尺寸：1片Ф6英寸

★刻蚀材料：包括并不限于GaN、GaAs、InP、Al、Cr、单晶硅、多晶硅、SiO2、Si3N4、Ti、W、Mo、聚合物等。

★刻蚀腔体：高真空系统

★Load-Lock：低真空系统或高真空系统。双片装，样品自动运送。

★刻蚀不均匀性：±3%-±6%

★刻蚀速率：0.1-4μm/min（视具体材料与工艺）

★工作台：可升降，包含水冷

★电源配置：上电射频，下电偏压，包含自动匹配